半导体工艺设备Semiconductor Processing Equipment
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立式扩散炉Vertical Diffusion Furnace主要用于集成电路、功率器件、MEMS、VCSEL等半导体器件的生产制造，主要功能在晶圆上进行扩散、氧化、退火等工艺...查看更多 + -
扩散炉Diffusion furnace主要应用于集成电路、分立器件、电力电子器件的掺杂、氧化、退火、合金及烧结等工艺，控制半导体材料的杂质分布与电特性...查看更多 + -
闭管软着陆扩散系统用于掺杂（如硼、磷扩散）、氧化、退火等工艺，采用先进的控制算法和精密的硬件设备，能够实现对杂质扩散深度、浓度分布...查看更多 + -
低压气相沉积LPCVD主要用于在低压环境下通过化学反应在晶圆表面沉积高质量薄膜，可沉积多晶硅(Poly-Si)、氮化硅(Si3N4)、氧化硅(SiO2)薄膜...查看更多 + -
合金炉LED Alloy Furnace应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域查看更多 + -
退火炉Anneal Furnace应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域查看更多 +